Hafnium tetraiodide and oxygen as precursors for atomic layer deposition of hafnium oxide thin films
| Imagen |  |
|---|---|
| Descripción | |
| Autoría |
autor: Kaupo Kukli Timo Sajavaara Anders Hårsta Jonas Sundqvist |
| Fecha de publicación | octubre 2002 |
| Idioma | |
| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Private domain |
| ¿Datos faltantes/errados? | Editar ítem de Wikidata |