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Atomic Layer Deposition of Titanium Nitride Thin Films Using tert-Butylamine and Allylamine as Reductive Nitrogen Sources

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Descripción
Autoría

autor: Petra Alén  Markku Leskela  Timo Sajavaara  Mikko Ritala 

Fecha de publicación 2002
Idioma
País de origen
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Estatus de derecho de autor Private domain
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