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Atomic layer deposition of Al2O3, ZrO2, Ta2O5, and Nb2O5 based nanolayered dielectrics

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Descripción
Autoría

autor: Kaupo Kukli  David Gilmer  Markku Leskela  Timo Sajavaara  Mikko Ritala 

Fecha de publicación mayo 2002
Idioma
País de origen
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