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Properties of Oxide Film Atomic Layer Deposited from Tetraethoxy Silane, Hafnium Halides, and Water

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Descripción
Autoría

autor: Kaupo Kukli  Philip J. Tobin  David Gilmer  Markku Leskela  Timo Sajavaara  Mikko Ritala 

Fecha de publicación 2004
Idioma
País de origen
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