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Evaluation of New Aminoalkoxide Precursors for Atomic Layer Deposition. Growth of Zirconium Dioxide Thin Films and Reaction Mechanism Studies

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Descripción
Autoría

autor: Raija Matero  Markku Leskela  Timo Sajavaara  Mikko Ritala 

Fecha de publicación diciembre 2004
Idioma
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