ALD of Ta(Si)N Thin Films Using TDMAS as a Reducing Agent and as a Si Precursor
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Petra Alén Titta Aaltonen Markku Leskela Timo Sajavaara Mikko Ritala |
| Fecha de publicación | 2004 |
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| País de origen | |
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