Erratum: Effect of selected atomic layer deposition parameters on the structure and dielectric properties of hafnium oxide films [J. Appl. Phys. 96, 5298 (2004)]
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| Autoría |
autor: Kaupo Kukli Aleks Aidla Teet Uustare Markku Leskela Timo Sajavaara Mikko Ritala Anders Hårsta Jonas Sundqvist |
| Fecha de publicación | mayo 2005 |
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| País de origen | |
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