Development of an MeV ion beam lithography system in Jyväskylä
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Harry J Whitlow Timo Sajavaara Sergey Gorelick Mikko Laitinen |
| Fecha de publicación | julio 2007 |
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| País de origen | |
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| Estatus de derecho de autor | Private domain |
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