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Atomic Layer Deposition of Ruthenium Films from (Ethylcyclopentadienyl)(pyrrolyl)ruthenium and Oxygen

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Descripción
Autoría

autor: Marianna Kemell  Massimo Tallarida  Kaupo Kukli  Aleks Aidla  Esa Puukilainen  Markku Leskela  Timo Sajavaara  Mikko Ritala  Mikko Laitinen  Jonas Sundqvist 

Fecha de publicación 2011
Idioma
País de origen
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