Lithography exposure characteristics of poly(methyl methacrylate) (PMMA) for carbon, helium and hydrogen ions
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Harry J Whitlow Nitipon Puttaraksa Rattanaporn Norarat Somsorn Singkarat Timo Sajavaara Mikko Laitinen |
| Fecha de publicación | febrero 2012 |
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| País de origen | |
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