Why are hydrogen ions best for MeV ion beam lithography?
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| Autoría |
autor: Orapin Chienthavorn Harry J Whitlow A.R. Ananda Sagari Mika Pettersson Nitipon Puttaraksa Rattanaporn Norarat Timo Sajavaara Mari Napari Mikko Laitinen |
| Fecha de publicación | febrero 2013 |
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