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Atomic Layer Deposition of LiF Thin Films from Lithd, Mg(thd)2, and TiF4 Precursors

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Descripción
Autoría

autor: Jani Hämäläinen  Esa Puukilainen  Markku Leskela  Timo Sajavaara  Mikko Ritala  Miia Mäntymäki 

Fecha de publicación 10 de abril de 2013
Idioma
País de origen
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