Alkylsilyl compounds as enablers of atomic layer deposition: analysis of (Et3Si)3As through the GaAs process
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Timo Hatanpää Tiina Sarnet Markku Leskela Timo Sajavaara Mikko Ritala K. Mizohata Mikko Laitinen |
| Fecha de publicación | 2016 |
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| País de origen | |
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