Plasma enhanced chemical vapor deposition of a-C:H films in CH4–CO2 plasma: Gas composition and substrate biasing effects on the film structure and growth process - Dominio Público Uruguay

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Plasma enhanced chemical vapor deposition of a-C:H films in CH4–CO2 plasma: Gas composition and substrate biasing effects on the film structure and growth process

Autoría

Detalles de la obra

Fecha de publicación: abril 2008

Idioma: Desconocido

País de origen: Desconocido

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