[(Me3Si)2N]3Lu: Molecular Structure and Use as Lu and Si Source for Atomic Layer Deposition of Lu Silicate Films

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Descripción
Autoría	autor: Giuseppe Pavia  Andrei Zenkevich  Claudia Wiemer
Fecha de publicación	septiembre 2007
Idioma
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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