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Effect on Al:MO2/In0.53Ga0.47As interface (M=Hf, Zr) of trimethyl-aluminum pre-treatment during atomic layer deposition

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Descripción
Autoría

autor: Alessandro Molle  Elena Cianci  Claudia Wiemer  Alessio Lamperti 

Fecha de publicación julio 2014
Idioma
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Estatus de derecho de autor Desconocido
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