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Optimum High-k Oxide for the Best Performance of Ultra-Scaled Double-Gate MOSFETs

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Descripción
Autoría

autor: Mehdi Salmani-Jelodar  Gerhard Klimeck  Hesameddin Ilatikhameneh 

Fecha de publicación noviembre 2016
Idioma
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https://archive.org/details/arxiv-1502.06178

Estatus de derecho de autor Private domain
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