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Novel Conductive Filament Metal-Interlayer-Semiconductor Contact Structure for Ultralow Contact Resistance Achievement

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Descripción artículo científico publicado en 2018
Autoría

autor: Hyun-Yong Yu  Joon Hyung Shim  Hyoungsub Kim  Seung-Hwan Kim  Jiyoung Kim  Gwang-Sik Kim 

Fecha de publicación 24 de julio de 2018
Idioma inglés
País de origen
Enlace a Wikipedia
Estatus de derecho de autor Desconocido
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