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Formation of GaP/Si(100) Heterointerfaces in the Presence of Inherent Reactor Residuals

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Descripción
Autoría

autor: Thomas Hannappel  Matthias M. May  Oliver Supplie  Helena Stange 

Fecha de publicación 29 de abril de 2015
Idioma inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor Private domain
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