Fabrication of 3 nm wires using 100 keV electron beam lithography and poly(methyl methacrylate) resist
| Imagen |  |
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: David Robert Sime Cumming |
| Fecha de publicación | 15 de enero de 1996 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
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