Influence of photo-curing distance on bond strength and nanoleakage of self-etching adhesive bonds to enamel and dentin.

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Descripción	artículo científico publicado en 2013
Autoría	autor: Adriano Fonseca Lima  Luís Alexandre Maffei Sartini Paulillo  Carlos Tadeu Dias  Lúcia Trazzi Prieto
Fecha de publicación	3 de julio de 2013
Idioma
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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