Tuning Material Properties of Oxides and Nitrides by Substrate Biasing during Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition on Planar and 3D Substrate Topographies.
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|---|---|
| Descripción | artículo científico publicado en 2018 |
| Autoría |
autor: Adriana Szeghalmi Saurabh Karwal Wilhelmus M. M. Kessels Tahsin Faraz Marcel A Verheijen |
| Fecha de publicación | 9 de abril de 2018 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
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