Substrate selectivity in the low temperature atomic layer deposition of cobalt metal films from bis(1,4-di-tert-butyl-1,3-diazadienyl)cobalt and formic acid

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Descripción	artículo científico publicado en 2017
Autoría	autor: Yves Chabal  Joseph P. Klesko
Fecha de publicación	1 de febrero de 2017
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Private domain
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