Polyarylenesulfonium Salt as a Novel and Versatile Nonchemically Amplified Negative Tone Photoresist for High-Resolution Extreme Ultraviolet Lithography Applications.

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Descripción	artículo científico publicado en 2016
Autoría
Fecha de publicación	27 de diciembre de 2016
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Public domain
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