Comparison of the Atomic Layer Deposition of Tantalum Oxide Thin Films Using Ta(NtBu)(NEt2)3, Ta(NtBu)(NEt2)2Cp, and H2O.

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Descripción	artículo científico publicado en 2016
Autoría	autor: Cheol Seong Hwang  Sang Woon Lee  Sanjeev Gautam  Deok-Yong Cho
Fecha de publicación	20 de diciembre de 2016
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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