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Self-Terminating Confinement Approach for Large-Area Uniform Monolayer Graphene Directly over Si/SiOx by Chemical Vapor Deposition.
artículo científico publicado en 2017
Autoría
Detalles de la obra
Fecha de publicación:
26 de enero de 2017
Idioma:
inglés
País de origen:
Desconocido
Estado de los derechos de autor
Dominio público