The residual pattern of double thin-film over-etching for the fabrication of continuous patterns with dimensions varying from 50 nm to millimeters over a large area

Imagen
Descripción	artículo científico publicado en 2008
Autoría	autor: Chun Yang
Fecha de publicación	11 de marzo de 2008
Idioma
País de origen
Enlace a Wikipedia
Estatus de derecho de autor	Desconocido
¿Datos faltantes/errados?	Editar ítem de Wikidata