Area-selective atomic layer deposition of Ru on electron-beam-written Pt(C) patterns versus SiO2 substratum

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Descripción	artículo científico publicado en 2017
Autoría	autor: Bernd Rellinghaus  Johann W. Bartha  Ehrenfried Zschech
Fecha de publicación	24 de agosto de 2017
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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