Nanopatterning via Self-Assembly of a Lamellar-Forming Polystyrene-block-Poly(dimethylsiloxane) Diblock Copolymer on Topographical Substrates Fabricated by Nanoimprint Lithography

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Descripción	artículo científico publicado en 2018
Autoría	autor: Apostolos Avgeropoulos  Dipu Borah  Marc Zelsmann  K Ntetsikas
Fecha de publicación	9 de enero de 2018
Idioma
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