Phase stabilization of Al:HfO2 grown on In(x)Ga(1-x)As substrates (x = 0, 0.15, 0.53) via trimethylaluminum-based atomic layer deposition
| Imagen |  |
|---|---|
| Descripción | artículo científico publicado en 2014 |
| Autoría |
autor: Marco Fanciulli Sabina Spiga Alessandro Molle Elena Cianci Claudia Wiemer Alessio Lamperti |
| Fecha de publicación | 21 de febrero de 2014 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
| ¿Datos faltantes/errados? | Editar ítem de Wikidata |