Influence of solvents and composition of etch-and-rinse and self-etch adhesive systems on the nanoleakage within the hybrid layer.

Imagen
Descripción	artículo científico publicado en 2013
Autoría	autor: Paulo Melo  Álvaro F Azevedo
Fecha de publicación	1 de julio de 2013
Idioma
País de origen
Enlace a Wikipedia
Estatus de derecho de autor	Desconocido
¿Datos faltantes/errados?	Editar ítem de Wikidata