Photolysis of CF3CH2CHO in the presence of O2 at 248 and 266 nm: quantum yields, products, and mechanism.
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|---|---|
| Descripción | artículo científico publicado en 2013 |
| Autoría |
autor: María Antiñolo Jose Albaladejo E Jiménez P Dréan Christa Fittschen |
| Fecha de publicación | 3 de octubre de 2013 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
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| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
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