Fabrication of ordered, large scale, horizontally-aligned si nanowire arrays based on an in situ hard mask block copolymer approach

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Descripción	artículo científico publicado en 2013
Autoría	autor: Michael A Morris  Justin D. Holmes
Fecha de publicación	26 de noviembre de 2013
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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