Role of trimethylboron to silane ratio on the properties of p-type nanocrystalline silicon thin film deposited by radio frequency plasma enhanced chemical vapour deposition.

Imagen
Descripción	artículo científico publicado en 2010
Autoría	autor: Rodrigo Martins  Elvira Fortunato  H Águas  Iwona Bernacka-Wojcik  Sergej Filonovich
Fecha de publicación	1 de abril de 2010
Idioma	inglés
País de origen
Enlace a Wikipedia
Estatus de derecho de autor	Private domain
¿Datos faltantes/errados?	Editar ítem de Wikidata