Atomic layer deposition on phase-shift lithography generated photoresist patterns for 1D nanochannel fabrication.

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Descripción	artículo científico publicado en 2010
Autoría	autor: Margit Zacharias  Gregory B Stevens
Fecha de publicación	3 de noviembre de 2010
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Private domain
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