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Uniform Atomic Layer Deposition of Al2O3 on Graphene by Reversible Hydrogen Plasma Functionalization

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Descripción artículo científico publicado en 2017
Autoría

autor: René H J Vervuurt  Bora Karasulu  Marcel A Verheijen  Ageeth A Bol 

Fecha de publicación 23 de febrero de 2017
Idioma
País de origen
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