Directed Self-Assembly of Triblock Copolymer on Chemical Patterns for Sub-10-nm Nanofabrication via Solvent Annealing

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Descripción	artículo científico publicado en 2016
Autoría
Fecha de publicación	2 de agosto de 2016
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Public domain
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