Ferroelectricity and antiferroelectricity of doped thin HfO2-based films
| Imagen |  |
|---|---|
| Descripción | artículo científico |
| Autoría |
autor: Min Hyuk Park Thomas Mikolajick |
| Fecha de publicación | 11 de febrero de 2015 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
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| Estatus de derecho de autor | Private domain |
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