Large-area, continuous and high electrical performances of bilayer to few layers MoS2 fabricated by RF sputtering via post-deposition annealing method.
| Imagen |  |
|---|---|
| Descripción | |
| Autoría |
autor: Dhanasekaran Vikraman Sajjad Hussain Muhammad Farooq Khan |
| Fecha de publicación | 5 de agosto de 2016 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
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