Effects of deep wet etching in HF/HNO₃ and KOH solutions on the laser damage resistance and surface quality of fused silica optics at 351 nm.

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Descripción	artículo científico publicado en 2017
Autoría	autor: Bruno Bousquet  Marc Dussauze
Fecha de publicación	1 de marzo de 2017
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Private domain
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