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Influence of light-curing distance on degree of conversion and cytotoxicity of etch-and-rinse and self-etch adhesives

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Descripción artículo científico publicado en 2016
Autoría

autor: Florian Wegehaupt  Thomas Attin  Georgios N Belibasakis 

Fecha de publicación 7 de julio de 2016
Idioma
País de origen
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Estatus de derecho de autor Private domain
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