Fabrication of HfO2 patterns by laser interference nanolithography and selective dry etching for III-V CMOS application
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| Descripción | artículo científico publicado en 2011 |
| Autoría |
autor: Paul K Hurley Karim Cherkaoui Scott Monaghan Jon M. Molina-Aldareguia Beatriz Galiana |
| Fecha de publicación | 31 de mayo de 2011 |
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| País de origen | |
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| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
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