Focused laser spike (FLaSk) annealing of photoactivated chemically amplified resists for rapid hierarchical patterning

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Descripción	artículo científico publicado el 18 de abril de 2011
Autoría	autor: Edwin L. Thomas  Jonathan P Singer  Steven E Kooi
Fecha de publicación	18 de abril de 2011
Idioma	inglés
País de origen
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Acceder a la obra	http://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2011/NR/C1NR10050E
Estatus de derecho de autor	Desconocido
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