Micrometer- and nanometer-scale photopatterning using 2-nitrophenylpropyloxycarbonyl-protected aminosiloxane monolayers

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Descripción	artículo científico publicado en 2009
Autoría	autor: Lu Shin Wong  Graham J. Leggett  Shahrul Ahmad  Jamie K Hobbs
Fecha de publicación	1 de febrero de 2009
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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