Hydrogen plasma treatment of very thin p-type nanocrystalline Si films grown by RF-PECVD in the presence of B(CH3)3
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| Descripción | artículo científico publicado en 2012 |
| Autoría |
autor: Andreia Araújo Tito Busani Joaquim P. Leitão Rodrigo Martins Diana Gaspar Márcia Vilarigues Elvira Fortunato H Águas António Vicente Sergej Filonovich |
| Fecha de publicación | agosto 2012 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
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