Atomic layer deposition of polycrystalline HfO2 films by the HfI4–O2 precursor combination

Imagen
Descripción	artículo científico publicado en 2003
Autoría	autor: Kaupo Kukli  Jonas Sundqvist
Fecha de publicación	marzo 2003
Idioma
País de origen
Enlace a Wikipedia
Estatus de derecho de autor	Private domain
¿Datos faltantes/errados?	Editar ítem de Wikidata