Atomic Layer Deposition of Ta2O5 Using the TaI5 and O2 Precursor Combination
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|---|---|
| Descripción | artículo científico publicado en 2003 |
| Autoría |
autor: Hans Högberg Jonas Sundqvist |
| Fecha de publicación | 16 de octubre de 2003 |
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| País de origen | |
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