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Atomic Layer Deposition of LaF3 Thin Films using La(thd)3 and TiF4 as Precursors

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Descripción artículo científico publicado en 2008
Autoría

autor: Esa Puukilainen  Kai Arstila  Markku Leskela  Mikko Ritala 

Fecha de publicación abril 2008
Idioma
País de origen
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