Suppression of Forward Electron Injection from Ru(dcbpy)2(NCS)2 to Nanocrystalline TiO2 Film As a Result of an Interfacial Al2O3 Barrier Layer Prepared with Atomic Layer Deposition - Dominio Público Uruguay

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Suppression of Forward Electron Injection from Ru(dcbpy)2(NCS)2 to Nanocrystalline TiO2 Film As a Result of an Interfacial Al2O3 Barrier Layer Prepared with Atomic Layer Deposition

artículo científico publicado en 2009

Autoría

Detalles de la obra

Fecha de publicación: 29 de diciembre de 2009

Idioma: Desconocido

País de origen: Desconocido

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