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Suppression of Forward Electron Injection from Ru(dcbpy)2(NCS)2 to Nanocrystalline TiO2 Film As a Result of an Interfacial Al2O3 Barrier Layer Prepared with Atomic Layer Deposition

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Descripción artículo científico publicado en 2009
Autoría

autor: Marianna Kemell  Markku Leskela  Pasi Myllyperkiö 

Fecha de publicación 29 de diciembre de 2009
Idioma
País de origen
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