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Fatigue Crack Growth Behavior of Silicon Nitride: Roles of Grain Aspect Ratio and Intergranular Film Composition

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Descripción artículo científico publicado en 2012
Autoría

autor: Michael J. Hoffmann 

Fecha de publicación 16 de octubre de 2012
Idioma
País de origen
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Estatus de derecho de autor Desconocido
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